铝合金在三氯化铁溶液中的砂面处理
铝及铝合金表面化学处理工艺小结
罗耀宗,巴烽翔
上海自动化仪表一厂
1980年我厂引进美国罗杰斯特(ROCHESTLR)闪光报警器,根据产品要求,大量的6063合金铝需进行化学氧化处理或微细喷砂,由于部分装饰性铝条较长,机械喷砂困难。为此,我们用化学喷面取代机械喷砂和低浓度化学氧化,达到产品要求,降低了劳动强度。其工艺流程是:
化学去油→水洗→化学砂面→水洗→化学抛光→水洗→脱膜→水洗→化学氧化→水洗→封闭(60~70℃)→干燥。
一、化学去油
采用碱性化学去油法,主要是去除零件表面的油污,将零件表面均匀地腐蚀,以改善零件因受外伤面引起的不均匀划痕、砂眼等状况。溶液配方如下如:
磷酸三钠 20g/L
碳酸钠 10g/L
氢氧化钠 5 g/L
海鸥洗涤剂 0.5 ml/L
温度 50~70℃
时间 3~5 min
铝既溶于酸又溶于碱,对碱特别敏感,在弱碱性溶液中清洗,结果发生化学及物理化学作用,除起皂化作用及乳化作用后,基体还有一定的腐蚀。
二、化学砂面
采用化学砂面工艺,操作方便,生产效率高、设备简单、适台于大批量生产。使用该工艺能使砂面细致,其主要原因是金属铝与活泼卤族发生化学作用,形成无光砂面。工艺配方如下:
过氧化氢 30 ml/L
三氯化铁 75g/L
氯化铵 70g/L
盐 酸 80 ml/L
温 度 40±5℃
时 问 0.5~3 min
在工艺操作过程中,应注意以下几个问题:
1. 工件不能重叠、遮影,要经常抖动以避免品点不均匀,产生自下而上的平行气带。
2. 工件不易太多,以免反应剧烈,升温过快。
3. 工件的粗糙度与浸渍的时间、溶液浓度和溶液温度应成正比。
三、无硝酸化学抛光
化学抛光是本工艺过程中非常重要的工序。因打砂后,工件表面有些发灰、发暗、表面麻坑也不太明显,没有晶体感,不能达到装饰要求。通过化学抛光比使工件表面既有金属光泽,又有均匀的喷砂表面,它可使砂面明显化、晶体化。化学抛光是打砂的继续。铝表面的光亮度可根据设计要求在抛光过程中寻求,即在一定的要求下抛光时问与亮度成正比。常用的化学抛光液,都含有硝酸,为消除硝酸中有害气体和污染,我们经过大量的试验,研制出了铝件无硝酸化学抛光工艺。该工艺稳定、简单、效果好。配方如下:
磷酸 45%
硫酸 45%
水 10%
LP -1(开缸剂) 25%
LP -2 25%
温度 120~130℃
时问 1~3 min
为了获得良好的效果,溶液中主要成份及条件必须掌握好。
H3PO4:主要起缓和反应的作用,同时具有一定的增光作用。
H2SO4:可以加快抛光速度,但整平效果不佳。
LP-1、LP-2添加剂:降低溶液表面涨力,稳定抛光速度,提高光亮效果。
温度:温度过低反应速度慢、零件无光、温度大于140℃,零件腐蚀加快,光亮不均匀,并呈点状或条状腐蚀,光亮度显著降低,一般控制在120~130℃较好。
操作时应不断地抖动工件,使工件各部位都能均匀地腐蚀抛光。
非纯铝经化学抛光处理以后,工件表面往往会有一层薄薄挂灰,以前常用1:1的HNO3或3~5%的K2Cr2O7溶液处理,但其污染都较大。为此,我们研制了脱膜液:
硫 酸 200 ml/L
过氧化氢 100 ml/L
温 度 室 温
工件浸入这种溶液时轻轻地抖动,挂灰将很快除去。
四、化学氧化
参考先进的经验并结合本厂产品的要求,代们拟定出溶液配方:
磷 酸 0.3 ml/L
铬 酐 0.5g/L
LP-3添加剂 0.6g/L
pH 2.0
温 度 50±5℃
时 间 3~5 min
其中各成份作用及操作条件是:
H3PO4:生成化学氧化膜。
CrO3:溶液中的氧化剂,形成氧化膜层,不可缺少,若溶液中无铬酸,铝的溶解将加快。
LP-3添加剂:化学氧化液中的活化剂,能使膜层细致,无色透明以及能提高膜层硬度。
温度:获得优质膜层的主要因素,大于55℃,反应速度太快,膜层疏松,结合力不好,膜层带色。低于45℃,膜层太薄,防腐能力下降。
氧化时间:一般3~5min为宜。
用本工艺氧化的零件一般不经过钝化处理也能达到较好的抗蚀能力。
五、氧化膜的后处理
经过化学氧化后的氧化膜一般很薄且多孔,为了提高氧化膜的耐府蚀性能、往往还需对氧化膜进行封孔后处理。为此我们筛选了十多个封孔工艺,得出了一个简单、方便、成本低、污染少的封孔工艺:
H2O 1 L
K2Cr2O7 0.05g/L
温 度 75~88℃
时 间 3~5 min
六、抗蚀性能检验
为了检验本工艺处理后氧化膜的抗蚀性能,我们将经过以上各工序处理过的试样,进行了盐雾试验。盐雾试验条件如下:
氯化钠 5±1%
温 度 35℃
沉降量 1~2 ml/80cm2·h
收集液pH 6.5~7.2
经7周期共168小时盐雾试验表明,表面无明显腐蚀,表面色泽基本保持试样材料的本色,无多大变化。基本满足和达到了罗杰斯特产品要求,后经多次小批量试做,效果良好。